冯庆浩
【姓名】 冯庆浩
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;材料科学;
【研究方向】 是多晶硅薄膜的低温制备及其特性分析
【发表文献关键词】 ECR-PECVD,多晶硅薄膜,反射高能电子衍射,透射电子显微镜,原子力显微镜,流量比,低温沉积,衬底温度,电子回旋共振,薄膜结构,等离子体增强,非晶硅,微波功率,硅衬底,沉积温度,普通玻璃,薄膜沉积...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 辽宁大连
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[1]冯庆浩;秦福文;吴爱民;王阳;.ECR-PECVD方法低温制备多晶硅薄膜[J]半导体技术.2006,(05)
[2]王艳艳;秦福文;吴爱民;冯庆浩;.用ECR-PECVD低温沉积多晶硅薄膜[J]半导体光电.2006,(04)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]冯庆浩.多晶硅薄膜的ECR-PECVD低温沉积及特性[D].大连理工大学.2006
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