魏希文
【姓名】 魏希文
【职称】
【研究领域】 自动化技术;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多晶硅薄膜,霍尔效应,测试装置,淀积温度,或门电路/线性“与或”门,迁移率,简并化多晶硅薄膜,晶粒边界的势垒高度,线性“与或”门,半导体器件,硅烷,生长速率,霍尔测量,恒温槽,与门电路,发射结,测温,...
【工作单位】 大连工学院
【曾工作单位】 大连工学院;
【所在地域】
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[1]魏希文,马灵芝,牛德芳.半导体器件中的优质多晶硅薄膜的生长及其检测方法[J]大连工学院学报.1982,(04)
[2]张兆文,魏希文.一种新型的霍尔效应测试装置[J]大连工学院学报.1983,(03)
[3]魏希文;张兆文;.DH82型低温变温霍尔测试装置[J]仪器制造.1983,(05)
[4]魏希文,张兆文,王美田.温度对多晶硅薄膜迁移率的影响[J]大连工学院学报.1986,(01)
[5]邹赫麟,魏希文,马平西.亚毫微秒速度高均匀性多元逻辑电路的研制[J]大连理工大学学报.1992,(06)
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