彭存达
【姓名】 彭存达
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 粉末,碳化钨,等离子喷涂,电弧电压,等离子,喷涂条,涂层组织,涂层,离子电流,碳化钨粉末,等离子气体,离子能量,送粉,喷涂,等离子喷涂设备,等离子电弧,涂铸,低功率,硬度,粉末入口,
【工作单位】 大连海事大学
【曾工作单位】 大连海事大学;
【所在地域】 辽宁大连
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[1]高阳,史雅琴,辛刚,彭存达.等离子喷涂碳化钨涂层组织与喷涂条件的关系[J]机械工程材料.2002,(08)
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