付伟佳
【姓名】 付伟佳
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ZnO薄膜,表面形貌,反应射频磁控溅射,两步生长,形貌分析,磁控溅射,微观结构,光学性能,工作气压,过渡层,生长行为,表面粗糙度,生长方法,基片,成核密度,沉积时间,低温沉积,刻蚀,完全覆盖,结晶特性...
【工作单位】 大连理工大学
【曾工作单位】 大连理工大学;
【所在地域】 大连
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[1]付伟佳;刘志文;谷建峰;刘明;张庆瑜;.偏压对磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学的影响[J]无机材料学报.2009,(03)
[2]付伟佳;刘志文;刘明;牟宗信;张庆瑜;关庆丰;陈康敏;.离子注入Zn的Si(001)基片热氧化制备纳米ZnO团簇及其生长行为研究[J]物理学报.2009,(08)
[3]刘志文;谷建峰;付伟佳;孙成伟;李勇;张庆瑜;.工作气压对磁控溅射ZnO薄膜结晶特性及生长行为的影响[J]物理学报.2006,(10)
[4]谷建峰;刘志文;刘明;付伟佳;马春雨;张庆瑜;.Si(001)基片上反应射频磁控溅射ZnO薄膜的两步生长方法[J]物理学报.2007,(04)
[5]谷建峰;付伟佳;刘明;刘志文;马春雨;张庆瑜;.电化学沉积高c轴取向ZnO薄膜及其光学性能分析[J]物理学报.2007,(10)
[6]刘志文;付伟佳;刘明;谷建峰;马春雨;张庆瑜;.磁控溅射ZnO薄膜的退火热力学行为研究[J]电子显微学报.2007,(06)
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