Yoshihro
【姓名】 Yoshihro
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 SiO_2薄膜,化学汽相淀积,氘灯,衬底温度,淀积膜,敏化,CVD方法,折射率,淀积速率,反应室,氖灯,生长速率,CVD膜,吸收峰,吸收系数,熔凝石英,真空紫外光,红外透射光谱,热生长,真空紫外,
【工作单位】 大阪大学
【曾工作单位】 大阪大学;
【所在地域】
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 0 0 0 6
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]Masanori Okugama,Yoshihiko Toyoda,Yoshihro Hamakawa,程开富.氘灯光致SiO_2薄膜化学汽相淀积[J]微细加工技术.1987,(Z2)
更多