赵胜林
【姓名】 赵胜林
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 软X射线光刻,表面活化,抗蚀剂,电镀法,X射线光刻,掩模制备,电子束制版,吸附物质,新方法,电于束,表面活化处理,半导体工艺设备,铬版,最细线,软X射线,表面层,粘附性,基片表面状态,净化室,不良现象...
【工作单位】 长沙半导体工艺设备研究所
【曾工作单位】 长沙半导体工艺设备研究所;
【所在地域】
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[1]张定华,赵胜林,张海林,蔡守民.表面活化新方法[J]微细加工技术.1983,(01)
[2]赵胜林.电镀法制备软X射线光刻掩模[J]微细加工技术.1985,(02)
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