LC
【姓名】 LC
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子注入机,B型,工业部,研究所,运行情况,技术性能,束流,离子能量,束流强度,束斑,寸片,离子注入技术,真空性能,离子源,非均匀性,离子注,靶室,离子注入,硼离子,注入剂量,
【工作单位】 长沙半导体工艺设备研究所
【曾工作单位】 长沙半导体工艺设备研究所;
【所在地域】
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[1]LC—2B机组,陈亚光.LC—2B型中能离子注入机[J]微细加工技术.1988,(01)
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