李轶华
【姓名】 李轶华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 刻蚀速率,选择比,反应性离子刻蚀,多晶硅薄膜晶体管,晶体管工艺,硅薄膜,反应性,硅薄膜晶体管,刻蚀过程,多晶,气体流量,光刻胶,化学刻蚀,离子刻蚀,射频功率,自偏压,溅射,多晶硅,刻蚀工艺,溅射功率,
【工作单位】 长春光学精密机械学院
【曾工作单位】 长春光学精密机械学院;
【所在地域】 吉林长春
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[1]王大海,李轶华,孙艳,吴渊,陈国军,付国柱,荆海,万春明.多晶硅薄膜晶体管工艺中的反应性离子刻蚀[J]液晶与显示.2002,(01)
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