A.Misiuk
【姓名】 A.Misiuk
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 氧沉淀,硅,高压,热施主,压热处理,硅原子,硅材料,形核半径,直拉硅单晶,硅基体,国家重点实验室,浙江大学,电学性能,杭州,中温退火,剪模,二次缺陷,中生成,硅中氧,低温工艺,
【工作单位】 波兰科学院
【曾工作单位】 波兰科学院;
【所在地域】 华沙
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[1]徐进,杨德仁,马向阳,李春龙,阙端麟,A.Misiuk.高压热处理对氧沉淀低温形核的影响[J]半导体学报.2002,(04)
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