安生
【姓名】 安生
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 努氏界面印痕,异质界面,断裂表面能,红外探测器,p-Si,SiO2层,金属研究,低压等离子,膜基界面,涂层,喷涂涂层,非晶,分析测试,技术研究所,过渡带,外延生长,高分辨电子显微像,多晶,Si界面,晶...
【工作单位】 北京有色金属研究总院分析测试技术研究所
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院分析测试技术研究所;
【所在地域】 北京
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[1]刘安生,邵贝羚,安生,刘峥,王敬.红外探测器中的异质界面和缺陷的研究[J]电子显微学报.2000,(04)
[2]朱其芳,邵贝羚,刘安生,安生,王福生,李东飞.低压等离子喷涂涂层膜基界面结合能的研究[J]稀有金属.2002,(05)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]刘安生;邵贝羚;安生;刘峥;王敬;.红外探测器中的异质界面和缺陷的研究[A].第十一次全国电子显微学会议论文集.2000-06-30
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