常世安
【姓名】 常世安
【职称】
【研究领域】 电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 立方织构,CeO_2缓冲层,金属镍,磁控溅射,磁控,CeO_2,溅射法,带材,极图,缓冲层,射频磁控,金属基底,缓冲,金属研究,溅射气压,面内取向,溅射气体,双轴织构,气压,溅射,
【工作单位】 北京有色金属研究总院超导材料研究中心
【曾工作单位】 北京有色金属研究总院超导材料研究中心;
【所在地域】 北京
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[1]杨坚,石东奇,常世安,袁冠森.磁控溅射法在立方织构镍基底上制备CeO_2缓冲层[J]稀有金属.2000,(04)
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