付一良
【姓名】 付一良
【职称】
【研究领域】 轻工业手工业;一般化学工业;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光电测试系统,静电照相技术,静电照相,光导体,阻挡层,邻重氮萘醌,有机光导体,光导层,静电潜影,酞菁酮,暗衰减,光电测试,光衰减,显影液,饱和电位,正充电,表面电位,改性树脂,PS版,光导材料,高分子...
【工作单位】 北京印刷学院
【曾工作单位】 北京印刷学院;
【所在地域】 北京
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[1]张伟民，付一良，周文华，蒲嘉陵.阻挡层对静电潜影稳定性的作用[J]北京印刷学院学报.1994,(01)
[2]蒲嘉陵，张伟民，付一良.单层结构ε－CuPc光导体的静电照相特性──ε－CuPc的浓度的影响[J]感光科学与光化学.1995,(01)
[3]张伟民,蒲嘉陵,周文华,付一良.邻重氮萘醌改性酚醛树脂碱溶解特性的定量评价[J]影像技术.1996,(04)
[4]付一良,张伟民,蒲嘉陵.静电照相光电测试系统的研制[J]北京印刷学院学报.1993,(01)
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