阎凤章
【姓名】 阎凤章
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光退火,光退火,光电晶体管,热退火,离子注入,注入层,CO_2,穿通型,砷化镓,Ge/GaAs,硅光电晶体管,白光快速退火,多晶硅发射极,浅结,穿通,隔离环,高增益,退火时间,雪崩光电二极管(APD...
【工作单位】 北京师范大学
【曾工作单位】 北京师范大学;
【所在地域】 北京
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[1]韩德俊;李国辉;韩卫;魏东平;阎凤章;朱恩均;周均铭;黄绮;.新型AlGaAs/GaAs穿通型光电晶体管[J]高技术通讯.1993,(10)
[2]杨茹,李国辉,仁永玲,阎凤章,朱红清.Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究[J]功能材料与器件学报.2000,(03)
[3]杨茹,任永玲,李国辉,阎凤章,朱红清.GaAs上Ge薄膜的性能研究[J]北京师范大学学报(自然科学版).2001,(02)
[4]阎凤章,李国辉,韩卫.穿通型光电晶体管的直流特性测试[J]北京师范大学学报(自然科学版).1994,(02)
[5]王晓慧,李国辉,阎凤章.新结构多晶硅发射极光电晶体管[J]北京师范大学学报(自然科学版).1997,(04)
[6]马景林,周瑞英,李国辉,阎凤章.磷砷化镓离子注入层的CW CO_2激光退火研究[J]半导体学报.1984,(06)
[7]李国辉,阎凤章,吕贤淑,苏绍义,白兴元.在双极电路中硼离子注入条件的选择[J]微电子学与计算机.1984,(06)
[8]李国辉,阎凤章,张通和,张荟星,吕贤淑.束流密度与注入层特性关系的研究[J]微电子学与计算机.1986,(02)
[9]张通和,李国辉,阎凤章,罗晏,王琦,贺令渝.离子注入白光退火特性[J]微细加工技术.1987,(Z2)
[10]张通和;李国辉;阎凤章;罗晏;吴瑜光;王文勋;.离子注入白光退火技术和浅结工艺的研究[J]北京师范大学学报(自然科学版).1987,(03)
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