张朝明
【姓名】 张朝明
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 浅结,非晶化,沟道效应,硼注入,硼原子,快速热退火,界面缺陷,峰值浓度,自注,退火时间,结深,电激活,外扩散,实验方法,晶化处理,退火过程,北京师范大学,物理研究所,载流子浓度,单晶硅,浓度分布,激活...
【工作单位】 北京师范大学
【曾工作单位】 北京师范大学;
【所在地域】
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[1]卢志恒,李素杰,罗晏,张朝明,张荟星.10keV B~+注入预非晶化Si的剩余缺陷和浅结[J]固体电子学研究与进展.1988,(04)
[2]张朝明;卢志恒;张荟星;李素杰;罗晏;.B~+和BF_2~+注入预非晶硅所形成浅结的比较[J]北京师范大学学报(自然科学版).1989,(01)
[3]卢志恒,李素杰,张朝明,罗晏,张荟星.衬底预非晶化对低能硼注入硅形成浅结的影响[J]半导体学报.1990,(03)
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