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胡仁元
【姓名】
胡仁元
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】
离子束混合,硅化钛,物理冶金,离子辐照,磁光盘,离子注入,辐照,磁膜,硅化钨,硅化物,抵消温度,离子束,点缺陷,Ti膜,原子,背散射,椭圆偏振光,玻璃改性,克尔效应,光盘,激光束,写人,靶元素,温度相...
【工作单位】
北京师范大学
【曾工作单位】
北京师范大学;
【所在地域】
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共找到14篇
[1]胡仁元,杨雨时.
Beryllium surface modified by boron implantation
[J]Progress in Natural Science.1995,(02)
[2]胡仁元.
离子束引起的固体原子混合
[J]物理.1984,(06)
[3]胡仁元.
用离子注入抑制金属氢脆的研究
[J]物理.1984,(10)
[4]胡仁元.
用离子束混合形成硅化钛
[J]半导体学报.1985,(01)
[5]胡仁元.
离子注入抑制金属氢脆
[J]材料保护.1985,(05)
[6]胡仁元.
磁光盘原理
[J]物理.1986,(03)
[7]胡仁元.
离子束与固体相互作用中的一些物理冶金问题
[J]核技术.1986,(03)
[8]胡仁元.
离子注入玻璃
[J]核技术.1986,(08)
[9]王忠烈,钱亚宏,丁训良,胡仁元,刘伊黎.
As离子注入形成硅化钨的研究
[J]核技术.1986,(08)
[10]王忠烈,胡仁元,刘伊犁,王文勋,吕建强.
多层W-Cu和Ta-Cu系统离子束混合的温度相关性
[J]核技术.1986,(08)
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王文勋
北京师范大学
1
吕建强
北京师范大学
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王忠烈
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丁训良
北京师范大学
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杨化中
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