张改莲
【姓名】 张改莲
【职称】
【研究领域】 一般化学工业;化学;轻工业手工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 NO,Pt-γ-Al2O3-CeO2,催化还原活性,矩阵树脂,纳米催化剂,ArF激光,光产酸源,光致抗蚀剂,化学增幅,193nm,DUV光致抗蚀剂,无预热CTP版,产酸源,免处理CTP版,阻溶剂,CT...
【工作单位】 北京师范大学
【曾工作单位】 北京师范大学;
【所在地域】 北京
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[9]杨凌露,张改莲,余尚先.化学增幅电子束抗蚀剂的研究概况[J]信息记录材料.2003,(03)
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中国重要会议全文数据库    共找到3篇
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[2]杨凌露;张改莲;余尚先;.化学增幅抗蚀剂用光产酸源[A].中国感光学会第六届青年学术交流会论文集.2002-12-01
[3]杨金瑞;张改莲;孔琳;余尚先;.富士胶片公司热敏CTP版材的研制开发新动态[A].中国感光学会第六届青年学术交流会论文集.2002-12-01
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