王忠烈
【姓名】 王忠烈
【职称】 教授;
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子束混合,卢瑟福背散射,硅化钨,热烧结,金属硅化物,难熔,硅化物,背散射谱,温度相关性,碰撞级联,氧杂质,共振散射,离子束,As离子注入,扩散混合,热扩散,辐射增强,辐照,薄膜反应,分凝,原子,离子...
【工作单位】 北京师范大学
【曾工作单位】 北京师范大学;
【所在地域】 北京
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[1]钱亚宏;卢武星;卢殿通;王忠烈;.兆电子伏高能硼离子注入硅的埋层形成[J]微电子学与计算机.1988,(10)
[2]王忠烈;.高功率脉冲激光致硅表面氧的退吸研究[J]北京师范大学学报(自然科学版).1984,(04)
[3]王忠烈,伊滕宪昭.离子束引起界面反应和原子混合的唯象模型[J]原子与分子物理学报.1985,(02)
[4]李毅,王忠烈,张健波.离子束辐射导致固体靶中原子混合与随机运动[J]原子与分子物理学报.1985,(03)
[5]王忠烈.离子束与表面层相互作用及其应用[J]核物理动态.1985,(S1)
[6]王忠烈,丁训良,钱亚宏.As离子束混合形成硅化钨的卢瑟福背散射分析[J]核技术.1986,(05)
[7]王忠烈,钱亚宏,丁训良,胡仁元,刘伊黎.As离子注入形成硅化钨的研究[J]核技术.1986,(08)
[8]王忠烈,胡仁元,刘伊犁,王文勋,吕建强.多层W-Cu和Ta-Cu系统离子束混合的温度相关性[J]核技术.1986,(08)
[9]胡仁元;王忠烈;刘伊犁;谢葆珍;.硅上硅化钛相变和生长动力学研究[J]北京师范大学学报(自然科学版).1986,(01)
[10]胡仁元,王忠烈,刘伊犁.钛硅之间的薄膜反应[J]固体电子学研究与进展.1987,(03)
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