倪国年
【姓名】 倪国年
【职称】
【研究领域】 无机化工;金属学及金属工艺;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 去应力退火,激光处理,热障涂层,涂层,表面强化,Si_3N_4陶瓷,自韧化,去应力处理,损伤性能,动态观察,裂纹扩展,界面区,性能,自韧化Si_3N_4,元素分布,陶瓷涂层,柱状晶粒,Si_3N_4基...
【工作单位】 北京理工大学
【曾工作单位】 北京理工大学;
【所在地域】 北京海淀
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[1]倪国年，孙克淋，罗相成.Si_3N_4基陶瓷裂纹扩展过程的动态观察[J]材料研究学报.1995,(02)
[2]倪国年，罗相成，赵振波，于晓东.自韧化氮化硅陶瓷研究[J]北京理工大学学报.1996,(04)
[3]赵振波,于晓东,梁胜德,倪国年.自韧化氮化硅陶瓷的研究与进展[J]无机材料学报.1997,(01)
[4]郭德成,倪国年,吴朝军.激光和去应力处理对陶瓷涂层抗热损伤性能的作用[J]兵器材料科学与工程.1991,(04)
[5]郭德成;倪国年;刘克勇;.涂层-金属基体界面区的激光熔合处理[J]兵器材料科学与工程.1993,(03)
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