和庆娣
【姓名】 和庆娣
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 偏斜度,分子动力学模拟,成核过程,计算机模拟,成核率,薄膜,衬底,形貌,粒子数,截断半径,沉积,成团,取值,理论,吸附,方法,生长,研究,变化规律,蒸发过程,
【工作单位】 北京理工大学
【曾工作单位】 北京理工大学;
【所在地域】 北京
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[1]周兰英;和庆娣;程平;.基体表面形貌对膜基结合强度影响规律的研究[J]表面技术.2006,(02)
[2]和庆娣,周兰英.薄膜成核过程的分子动力学模拟[J]机械.2005,(S1)
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