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李家全
【姓名】
李家全
【职称】
【研究领域】
物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
新施主,氧沉淀,方石英,点状缺陷,硅体,硅基体,对应关系,热处理,沉淀相,间隙氧,霍耳测量,预处理条件,晶态,片状,高分辨象,VLSI,施主浓度,离化,高分辨电子显微镜,沉淀物,
【工作单位】
北京科技大学
【曾工作单位】
北京科技大学;
【所在地域】
南京
学术成果产出统计表
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共找到1篇
[1]李家全,肖治纲,柯俊.
热处理CZ-Si中新施主与氧沉淀产物的对应关系
[J]物理学报.1989,(11)
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