张莉霞
【姓名】 张莉霞
【职称】
【研究领域】 无机化工;冶金工业;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 微弧氧化,电沉积,6.5%Si,陶瓷膜,微等离子体氧化,微弧,电化学还原法,熔盐,氧化技术,微等离子体,硅技术,历史和发展,沉积电势,阳极氧化,氧化膜,渗硅,电沉积技术,沉积时间,渗硅层,沉积层厚度,...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京
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中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]蔡宗英,张莉霞,邢献然,李运刚.微等离子体氧化技术制备陶瓷膜研究进展[J]湿法冶金.2004,(03)
[2]蔡宗英,张莉霞,李运刚.电沉积硅技术的历史和发展趋势[J]湿法冶金.2004,(04)
[3]蔡宗英,张莉霞,李运刚.电化学还原法制备Fe-6.5%Si薄板[J]湿法冶金.2005,(02)
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中国重要会议全文数据库    共找到2篇
[1]李红雨;王静松;许建国;石向东;张莉霞;薛庆国;.电脉冲处理对电工钢凝固组织影响试验研究[A].冶金研究中心2005年“冶金工程科学论坛”论文集.2005-06-30
[2]张莉霞;王静松;石向东;刘波;唐培新;于文涛;薛庆国;.电脉冲处理对近共晶成分铝硅合金凝固过程及凝固组织的影响[A].冶金研究中心2005年“冶金工程科学论坛”论文集.2005-06-30
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