翟启华
【姓名】 翟启华
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 界面反应,硅化物,Ｘ射线,界面形成,薄膜氧化,外延层,真空条件,高分辨,国维,氧化物,硅化物薄膜,临界厚度,氟酸,真空热处理,非晶,高分辨像,成核率,非晶层,观察到,氩气氛,
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】
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[1]张灶利，翟启华，纪箴，肖治纲，杜国维.Co／Si和Co／SiO_2界面反应的观察[J]半导体学报.1996,(04)
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