刘世良
【姓名】 刘世良
【职称】
【研究领域】 化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅,高纯铜,石墨炉原子吸收光谱法,高纯阴极铜,痕量硅,石墨炉,石墨管,光谱法测定,原子吸收,氟离子浓度,原子化,敏度,涂层石墨管,碳化硅,工作条件,氟化,基体改进剂,碱金属氟化物,灰化,容量瓶,
【工作单位】 北京矿冶研究总院
【曾工作单位】 北京矿冶研究总院;
【所在地域】 北京
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[1]闻莺,刘世良,高介平.石墨炉原子吸收光谱法测定高纯阴极铜中痕量硅的研究[J]冶金分析.2003,(04)
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