周祖源
【姓名】 周祖源
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 直流等离子体喷射,金刚石膜,CVD金刚石薄膜,晶面取向,无裂纹,自支撑,表面粗糙度,内应力,CVD金刚石,自支撑膜,核面,晶体组织,生长面,晶体结构,控制生长,沉积温度,体结构,金刚石,甲烷浓度,金刚...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/3 3 3 2 21 472
中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]周祖源;陈广超;戴风伟;兰昊;宋建华;李彬;佟玉梅;李成明;黑立富;唐伟忠;.直流电弧等离子喷射CVD中控制生长(111)晶面占优的金刚石膜[J]人工晶体学报.2006,(03)
[2]陈广超,周祖源,周有良,杨胶溪,李成明,宋建华,佟玉梅,唐伟忠,吕反修.直流等离子体喷射制备无裂纹自支撑金刚石膜体的晶体组织设计(英文)[J]人工晶体学报.2004,(04)
[3]周祖源,陈广超,周有良,吕反修,唐伟忠,李成明,宋建华,佟玉梅.DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究[J]人工晶体学报.2005,(01)
更多