蒋高松
【姓名】 蒋高松
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 金刚石薄膜,低温沉积,X-射线衍射,微波等离子体,MPCVD,金刚石,低温生长,沉积温度,界面结构,界面过渡层,过渡层,面间距,气相生长,单晶硅衬底,O相,加氧,原子态氧,原子态,Raman散射,α-...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】
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[1]吕反修,杨保雄,蒋高松.MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征[J]北京科技大学学报.1992,(02)
[2]吕反修,蒋高松,杨保雄.低温生长金刚石薄膜及其界面结构X-射线衍射研究[J]北京科技大学学报.1992,(04)
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