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【姓名】	王凤英
【职称】
【研究领域】	工业通用技术及设备;材料科学;物理学;
【研究方向】	微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的研究
【发表文献关键词】	晶体生长,金属凝固,Fourier级数,偏微分方程,固液界面,稳态,胞晶,物理,稳定态,算子L,控制方程,精确解,振荡衰减,本质特性,力系,北京科技大学,均匀流场,三角函,边界条件,正交性,
【工作单位】	北京科技大学
【曾工作单位】	北京科技大学;
【所在地域】	北京

中国期刊全文数据库 共找到8篇

[1]孟宪明;王凤英;黑立富;姜春生;唐伟忠;吕反修;.沉积参数对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响[J]材料科学与工艺.2009,(03)

[2]王凤英;唐伟忠;姜春生;于盛旺;.椭球形微波等离子体金刚石膜沉积装置与金刚石膜的制备[J]金属热处理.2009,(09)

[3]孟宪明;唐伟忠;黑立富;王凤英;姜春生;吕反修;.强电流直流伸展电弧CVD纳米金刚石涂层微型工具[J]金刚石与磨料磨具工程.2007,(05)

[4]王凤英;唐伟忠;孟宪明;.圆柱谐振腔式微波等离子体金刚石膜CVD沉积室的FDTD模拟与优化[J]真空科学与技术学报.2008,(06)

[5]郭会斌;王凤英;贺琦;魏俊俊;王耀华;吕反修;.反应磁控溅射法制备HfO_2金刚石红外增透膜[J]人工晶体学报.2008,(06)

[7]王凤英;孟宪明;唐伟忠;吕反修;.圆柱谐振腔式MPCVD装置中氢、氩微波等离子体分布规律的数值模拟[J]真空与低温.2008,(03)

[8]王凤英,陈明文,孙仁济,王自东.三维稳态晶体生长的物理本质[J]北京科技大学学报.2003,(03)

中国重要会议全文数据库 共找到1篇

[1]唐伟忠;于盛旺;李晓静;王凤英;张思凯;李义锋;.高品质金刚石膜微波等离子体CVD技术的发展现状[A].TFC'11全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2011-08-25

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