刘志凌
【姓名】 刘志凌
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻掩模,强电流直流伸展电弧,有效沉积区,金刚石涂层,MPCVD,X射线,成核,均匀性,金刚石薄膜,形核密度,甲烷浓度,CVD金刚石涂层,弧等离子体,金刚石膜,形核时间,硬质合金工具,质合金,强电流,...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京
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[1]苗晋琦,宋建华,赵中琴,陈利民,刘志凌,张恒大,佟玉梅,唐伟忠,吕反修.硬质合金工具强电流直流伸展弧等离子体CVD金刚石涂层的均匀性研究[J]金刚石与磨料磨具工程.2003,(02)
[2]李东辉,刘志凌,叶甜春,陈大鹏,吕反修.用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究[J]无机材料学报.2004,(04)
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