焦小明
【姓名】 焦小明
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 193 nm,光刻胶,单体,主体树脂,光致产酸剂,配方,最佳分辨率,聚合物,结构设计,光敏性,实验室,超大规模集成电路,曝光量,光刻工艺,曝光机,合成工艺,工艺条件,配方研究,波长,研究所,
【工作单位】 北京化学试剂研究所
【曾工作单位】 北京化学试剂研究所;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 0 1 0 14 661
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]郑金红,黄志齐,陈昕,焦小明,杨澜,文武,高子奇,王艳梅.193nm光刻胶的研制[J]感光科学与光化学.2005,(04)
更多