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侯宏森
【姓名】
侯宏森
【职称】
【研究领域】
一般化学工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】
248nm光刻胶,深紫外光刻,光致产酸剂,主体树脂,化学增幅,KrF激光,酸催化,SPIE,光刻胶,缩酮,深紫外,ESCA,环境稳定性,负型光刻胶,光敏性,光透,碱性添加剂,胶膜,活化能,缩醛,
【工作单位】
北京化学试剂研究所
【曾工作单位】
北京化学试剂研究所;
【所在地域】
北京
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共找到1篇
[1]郑金红,黄志齐,侯宏森.
248nm深紫外光刻胶
[J]感光科学与光化学.2003,(05)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
郑金红
北京化学试剂研究所
1
黄志齐
北京化学试剂研究所
1
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
刘建国
华中科技大学
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王霞
华中科技大学
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