杜新华
【姓名】 杜新华
【职称】 工程师;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 退火,薄膜,二氧化铈,界面,XPS,吸附,五氧化二铌,双层薄膜,X射线光电子能谱,氧敏,电子组态,晶体结构,薄膜结构,Nb_2O_5,氧化还原,氧敏薄膜,膜的制备,界面扩散,XPS谱,CeO_2,XP...
【工作单位】 北京科技大学
【曾工作单位】 北京科技大学;
【所在地域】 北京
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[1]杜新华,刘振祥,谢侃,王燕斌,褚武扬.CeO_2/Nb_2O_5双层氧敏薄膜的制备及界面扩散研究[J]真空科学与技术.1999,(03)
[2]杜新华,刘振祥,谢侃,王燕斌,褚武扬.退火对氧敏CeO_(2-x)薄膜结构及电子组态的影响[J]材料研究学报.1998,(06)
[3]杜新华,刘振祥,谢侃,王燕斌,褚武扬.溅射二氧化铈氧敏薄膜的XPS研究[J]功能材料.1998,(06)
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