刘齐成
【姓名】 刘齐成
【职称】 工程师;
【研究领域】 材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 PCVD法,CVD法,薄膜,PCVD,TiN薄膜,结合力,压入法,临界载荷,离化率,韧性,多层复合薄膜,脉冲,微观结构,团簇,界面状态,蚀性能,等离子场,阳极极化曲线,耐腐,直流,
【工作单位】 北京航空航天大学
【曾工作单位】 北京航空航天大学;
【所在地域】
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[1]刘齐成,刘培英,陶冶,刘利.CVD法与PCVD法TiN薄膜研究[J]材料工程.2000,(12)
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