万修如
【姓名】 万修如
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铬硅,卤化物活化剂,同时沉积铬硅,热力学计算,活化剂,AlF3,热力学,Cr3Si,卤化物,填充剂,共渗,NaCl,沉积反应,沉积元素,活度,CrCl3,中间合金,氟化,吉布斯能,渗涂层,
【工作单位】 北京航空航天大学
【曾工作单位】 北京航空航天大学;
【所在地域】
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[1]郭伟明,万修如.同时沉积铬硅的热力学计算[J]材料工程.1997,(03)
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