孙明达
【姓名】 孙明达
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子束诱导,晶化相,体心立方,硅掺杂,六方结构,电子束辐照,电子显微分析,面心立方结构,六方相,晶化行为,退火处理,稳定性,电子辐照,分析结果,晶化过程,样品,非晶态,原位,选区电子衍射,相变,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]孙明达;韩晓东;张晓娜;张泽;刘波;宋志棠;封松林;.原位电子束诱导碲化锑(Sb_2Te_3)及硅掺杂的晶化[J]电子显微学报.2006,(S1)
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[1]孙明达;韩晓东;张晓娜;张泽;刘波;宋志棠;封松林;.原位电子束诱导碲化锑(Sb_2Te_3)及硅掺杂的晶化[A].2006年全国电子显微学会议论文集.2006-08-01
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