刘黎明
【姓名】 刘黎明
【职称】
【研究领域】 化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 Ar离子溅射,XPS,金刚石,溅射,金刚石表面,电子能谱分析,杂化键,杂化,Ar离子,MPCVD,FWHM,溅射时间,价带,XAES,sp3键,溅射区,石墨,特征距离,D值,峰位,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]林志东,刘黎明,张万荣.金刚石表面Ar离子溅射效应的电子能谱分析[J]武汉化工学院学报.2004,(02)
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