我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
刘祖友
【姓名】
刘祖友
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
铝栅,多晶硅,模拟延迟线,光刻胶,剥离技术,辅助层,铝电极,金属层,铝层,引线孔,去胶剂,光刻版,转移效率,电极结构,蒸铝,等离子体,转移损失,成品率,电极间隙,窄间距,
【工作单位】
北京工业大学
【曾工作单位】
北京工业大学;
【所在地域】
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
1
0
0
0
0
16
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]孙昌诚,刘祖友.
采用剥离技术的铝栅100位CCD模拟延迟线
[J]北京工业大学学报.1980,(03)
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
Pramod
Massachusetts理工学院
R.T.Howe
Massachusetts理工学院
孙昌诚
北京工业大学
陆淑伟
东南大学
王跃林
清华大学
崔金标
天津大学
单成国
中国电子科技集团第四十七研究...
孙伯森
中国电子科技集团第四十七研究...
王嵩宇
中国电子科技集团第四十七研究...
酒井徹志
日本武野藏电通研究所
葛涛
上海市有色金属学会
蔡木本
中国华晶电子集团MOS电路总厂
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
孙昌诚
北京工业大学
1
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
曾权
北京工业大学
1
更多