刘祖友
【姓名】 刘祖友
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铝栅,多晶硅,模拟延迟线,光刻胶,剥离技术,辅助层,铝电极,金属层,铝层,引线孔,去胶剂,光刻版,转移效率,电极结构,蒸铝,等离子体,转移损失,成品率,电极间隙,窄间距,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】
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[1]孙昌诚,刘祖友.采用剥离技术的铝栅100位CCD模拟延迟线[J]北京工业大学学报.1980,(03)
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