刘钧锴
【姓名】 刘钧锴
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;材料科学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁光靶材,TbFeCo,c-BN薄膜,放电等离子,立方氮化硼薄膜,外延生长,射频溅射,压应力,基底负偏压,宽带隙,能量势垒,缺陷,衬底偏压,放电等离子烧结,相体积分数,转变过程,三步法,高质量,相含量...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[5]陈浩;邓金祥;陈光华;刘钧锴;田凌;.n-BN/p-Si薄膜异质结的Ⅰ-Ⅴ特性[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
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