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刘钧锴
【姓名】
刘钧锴
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;材料科学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
磁光靶材,TbFeCo,c-BN薄膜,放电等离子,立方氮化硼薄膜,外延生长,射频溅射,压应力,基底负偏压,宽带隙,能量势垒,缺陷,衬底偏压,放电等离子烧结,相体积分数,转变过程,三步法,高质量,相含量...
【工作单位】
北京工业大学
【曾工作单位】
北京工业大学;
【所在地域】
北京
学术成果产出统计表
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核心期刊论文数
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下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到5篇
[1]田凌;丁毅;陈浩;刘钧锴;邓金祥;贺德衍;陈光华;.
用射频溅射法制备立方氮化硼薄膜
[J]物理学报.2006,(10)
[2]陈浩;邓金祥;刘钧锴;周涛;张岩;陈光华;.
立方氮化硼薄膜沉积过程的相变研究
[J]物理学报.2007,(06)
[3]岳明,刘卫强,刘燕琴,刘钧锴,张久兴.
放电等离子烧结TbFeCo磁光靶材工艺研究
[J]稀有金属.2003,(05)
[4]陈光华,朱秀红,邓金祥,刘钧锴,陈浩.
高质量宽带隙立方氮化硼薄膜的研究进展
[J]物理.2004,(11)
[5]陈浩;邓金祥;陈光华;刘钧锴;田凌;.
衬底温度对宽带隙立方氮化硼薄膜制备的影响
[J]半导体学报.2005,(12)
更多
中国优秀硕士学位论文全文数据库
共找到1篇
[1]刘钧锴.
高质量立方氮化硼薄膜的制备和光电特性研究
[D].北京工业大学.2006
更多
中国重要会议全文数据库
共找到5篇
[1]邓金祥;陈浩;陈光华;刘钧锴;宋雪梅;朱秀红;王波;严辉;.
立方氮化硼薄膜表面的XPS研究
[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ.2004-09-01
[2]陈浩;邓金祥;刘钧锴;田凌;陈光华;.
n-BN/p-Si薄膜异质结的I-V特性研究
[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01
[3]刘钧锴;邓金祥;陈浩;田凌;陈光华;.
c-BN薄膜的生长过程和可重复性的研究
[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01
[4]刘钧锴;邓金祥;陈浩;田凌;陈光华;.
c-BN薄膜的生长过程和可重复性的研究
[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
[5]陈浩;邓金祥;陈光华;刘钧锴;田凌;.
n-BN/p-Si薄膜异质结的Ⅰ-Ⅴ特性
[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
刘卫强
北京工业大学
朱秀红
北京工业大学
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
陈光华
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8
陈浩
北京工业大学
8
田凌
兰州大学
5
丁毅
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1
贺德衍
兰州大学
1
邓金祥
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8
周涛
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1
张岩
北京工业大学
1
张久兴
北京工业大学
1
刘卫强
北京工业大学
1
刘燕琴
北京工业大学
1
岳明
北京工业大学
1
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
冯贞健
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3
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北京工业大学
3
邢光建
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3
于春娜
北京工业大学
3
荣延栋
北京工业大学
3
刘志农
西南交通大学
2
张喜燕
西南交通大学
2
张春玲
西南交通大学
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易锦
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2
张仿清
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1
郭永平
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1
陈光华
兰州大学
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