艾琳
【姓名】 艾琳
【职称】
【研究领域】 物理学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 三氟乙酸,丙三醇,TGS晶体,热释电系数,介电常数,居里温度,晶体生长习性,双掺,居里点,溶液降温法,电滞回线,热释电性能,偏压场,掺质,氢键网络,甘氨酸,晶胞参数,自发极化强度,晶体外形,性能研究,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]常新安;涂衡;臧和贵;艾琳;.退火处理对DKDP晶体光学均匀性的影响研究[J]人工晶体学报.2006,(03)
[2]常新安;艾琳;臧和贵;肖卫强;涂衡;.掺三氟乙酸TGS晶体生长及其性能研究[J]人工晶体学报.2006,(03)
[3]艾琳;常新安;臧和贵;肖卫强;涂衡;.三氟乙酸和丙三醇双掺TGS晶体生长与性能研究[J]人工晶体学报.2007,(01)
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[1]艾琳.掺质TGS系列晶体生长与性能研究[D].北京工业大学.2006
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