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【姓名】	张文理
【职称】
【研究领域】	材料科学;工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】	磁场,ECR-CVD,洛伦兹拟合,氢化非晶硅,MWECR CVD沉积系统,磁场梯度,a-Si∶H薄膜,永磁体,硅薄膜,MWECRCVD系统,场形,非晶,沉积速率,梯度磁场,氢化,微晶硅薄膜,沉积速度,...
【工作单位】	北京工业大学
【曾工作单位】	北京工业大学;
【所在地域】	北京

中国期刊全文数据库 共找到4篇

[1]朱秀红;陈光华;刘国汉;丁毅;何斌;张文理;马占洁;郜志华;李志中;.采用两步压强法制备优质微晶硅薄膜[J]人工晶体学报.2006,(06)

[2]殷生毅,陈光华,吴越颖,王青,刘毅,张文理,宋雪梅,邓金祥.一种新型磁场MWECR-CVD和氢化非晶硅薄膜制备[J]半导体学报.2004,(05)

[3]胡跃辉,吴越颖,陈光华,王青,张文理,阴生毅.MWECR CVD系统中磁场梯度对a-Si:H薄膜沉积速率的影响(英文)[J]半导体学报.2004,(06)

[4]胡跃辉,阴生毅,陈光华,吴越颖,周小明,周健儿,王青,张文理.MWECRCVD等离子体系统梯度磁场对沉积a-Si:H薄膜特性研究[J]物理学报.2004,(07)

中国重要会议全文数据库 共找到5篇

[1]荣延栋;阴生毅;胡跃辉;吴越颖;朱秀红;周怀恩;张文理;邓金祥;陈光华;.热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ.2004-09-01

[2]马占洁;陈光华;何斌;刘国汉;朱秀红;张文理;李志中;郜志华;宋雪梅;邓金祥;.影响氢化非晶硅薄膜光衰退稳定性的因素[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01

[3]张文理;陈光华;何斌;朱秀红;马占洁;丁毅;刘国汉;郜志华;宋雪梅;邓金祥;.采用热丝辅助MW-ECRCVD法制备高性能a-Si:H薄膜[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01

[4]张文理;陈光华;何斌;朱秀红;马占洁;丁毅;刘国汉;郜志华;宋雪梅;.热丝辅助MW-ECRCVD制备a-Si:H薄膜及硅-氢键合模式变化的研究[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01

[5]马占洁;陈光华;何斌;刘国汉;朱秀红;张文理;李志中;郜志华;宋雪梅;邓金祥;.氢化非晶硅薄膜光衰退稳定性的影响因素[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01

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