许仕龙
【姓名】 许仕龙
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 衬底负偏压,LSMO,介电薄膜,射频磁控,缓冲层,立方氮化硼薄膜,晶化温度,Ta_2O_5,择优取向生长,BN薄膜,拉曼光,Ta_2O_5薄膜,溅射,立方相,介电性能,谱分析,溅射制备,射频功率,性能...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]许仕龙,朱满康,黄安平,王波,严辉.衬底负偏压对溅射Ta_2O_5薄膜晶化温度及介电性能的影响[J]无机材料学报.2004,(03)
[2]杜永胜,王波,许仕龙,于敦波,李彤,严辉,张深根.Si衬底上SrMnO_3缓冲层对La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3薄膜择优取向生长的影响[J]稀有金属.2004,(06)
[3]蔡志海,杜玉萍,谭俊,张平,赵军军,黄安平,许仕龙,严辉.高质量立方氮化硼薄膜的射频磁控溅射制备及其性能表征[J]材料保护.2005,(01)
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中国优秀硕士学位论文全文数据库    共找到1篇
[1]许仕龙.LSMO薄膜磁控溅射制备及磁学性能研究[D].北京工业大学.2004
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[1]杜永胜;王波;许仕龙;于敦波;李彤;严辉;张深根;.Si衬底上La_(0.8)Sr_(0.2)MnO_3/SrMnO_3双层结构研究[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ.2004-09-01
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