周怀恩
【姓名】 周怀恩
【职称】
【研究领域】 材料科学;电力工业;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅薄膜,非晶,氢化非晶硅薄膜,氢稀释率,电子回旋共振化学气相沉积,光敏性,桥键,氢化,热丝,电子回旋共振,间隙扩散,氢扩散,CVD技术,and,傅立叶变换,薄膜光电特性,工艺参数,沉积速率,离子轰击,...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]周怀恩,陈光华,朱秀红,阴生毅,胡跃辉.热丝辅助MW ECR CVD技术高速沉积高质量氢化非晶硅薄膜(英文)[J]人工晶体学报.2005,(03)
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[1]荣延栋;阴生毅;胡跃辉;吴越颖;朱秀红;周怀恩;张文理;邓金祥;陈光华;.热丝辅助ECR-CVD制备a-Si:H薄膜的红外和光致衰退研究[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ.2004-09-01
[2]王青;阴生毅;胡跃辉;朱秀红;荣延栋;周怀恩;陈光华;.a-Si:H薄膜的制备工艺对其光电特性的影响[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅱ.2004-09-01
[3]高卓;胡跃辉;朱秀红;马占杰;周怀恩;陈光华;.MW-ECR制备的氢化非晶硅光电特性研究[A].第五届中国功能材料及其应用学术会议论文集Ⅰ.2004-09-01
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