殷生毅
【姓名】 殷生毅
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 半导体材料研究
【发表文献关键词】 磁场,ECR-CVD,氢化非晶硅,永磁体,硅薄膜,非晶,氢化,北京工业大学,电磁线圈,子体,工程学院,材料科学,沉积室,样片,a-Si∶H,薄膜沉积,磁镜场,轴向磁场分布,ECR等离子体,等离子体特性,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]殷生毅,陈光华,吴越颖,王青,刘毅,张文理,宋雪梅,邓金祥.一种新型磁场MWECR-CVD和氢化非晶硅薄膜制备[J]半导体学报.2004,(05)
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