宋道颖
【姓名】 宋道颖
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 MWECRCVD,二分角关系,多重线性分布,Monte Carlo方法,高斯函数拟合,IR分析,薄膜生长,高速沉积,材料教育,沉积速率,粒子数,Monte,伸缩振动,吸收峰,粒子,新型功能,衬底温度,...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]宋雪梅,宋道颖,陈蔚忠,芦奇力,冯贞健,鲍旭红,邓金祥,陈光华.MWECRCVD法高速沉积α-Si:H薄膜的红外光谱研究[J]人工晶体学报.2002,(03)
[2]陈光华,杨宁,宋道颖.薄膜生长的Monte Carlo模拟[J]北京工业大学学报.2002,(02)
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[1]宋道颖.a-Si:H薄膜的MWECR CVD制备及特性研究[D].北京工业大学.2002
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[1]宋道颖;宋雪梅;陈蔚忠;冯贞健;芦奇力;鲍旭红;陈光华;.a-Si:H薄膜的MW ECR CVD沉积与FTIR分析[A].中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集.2001-10-01
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