芦奇力
【姓名】 芦奇力
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 MWECRCVD,高斯函数拟合,IR分析,高速沉积,材料教育,沉积速率,伸缩振动,吸收峰,新型功能,衬底温度,沉积温度,峰强度,北京工业大学,拟合分析,重点实验室,高斯函数,红外光谱,等离子体室,Si...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]宋雪梅,宋道颖,陈蔚忠,芦奇力,冯贞健,鲍旭红,邓金祥,陈光华.MWECRCVD法高速沉积α-Si:H薄膜的红外光谱研究[J]人工晶体学报.2002,(03)
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[1]宋道颖;宋雪梅;陈蔚忠;冯贞健;芦奇力;鲍旭红;陈光华;.a-Si:H薄膜的MW ECR CVD沉积与FTIR分析[A].中国太阳能学会2001年学术会议论文摘要集.2001-10-01
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