田国勇
【姓名】 田国勇
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁控溅射离子镀,铝合金,氮化钛膜层,时效强化,膜层性能,放电特性,硬铝,硬度值,工艺参数,工艺试验,试验结果,低温度,负偏压,氮化,氮气分压,靶电流,溅射,磁控,沉积速率,条件,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】
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[1]张建华,翟乐恒,田国勇.铝合金基板上磁控溅射离子镀氮化钛膜层的研究[J]北京工业大学学报.1988,(03)
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