李志中
【姓名】 李志中
【职称】
【研究领域】 材料科学;工业通用技术及设备;无机化工;
【研究方向】 光电薄膜体材料与器件
【发表文献关键词】 微晶硅薄膜,沉积速度,晶化比,孵化层,稳定性,致密度,制备,两步法,压强,氧含量,样品,光敏性,硅烷,高质量,吸收系数,等离子体,稀释比,层厚度,红外吸收谱,拉曼谱,
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[1]朱秀红;陈光华;刘国汉;丁毅;何斌;张文理;马占洁;郜志华;李志中;.采用两步压强法制备优质微晶硅薄膜[J]人工晶体学报.2006,(06)
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[1]马占洁;陈光华;何斌;刘国汉;朱秀红;张文理;李志中;郜志华;宋雪梅;邓金祥;.影响氢化非晶硅薄膜光衰退稳定性的因素[A].TFC'05全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集.2005-09-01
[2]郜志华;陈光华;李志中;邓金祥;丁毅;.MW-ECR CVD制备立方氮化硼薄膜[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
[3]李志中;陈光华;何斌;郜志华;张晓康;丁毅;张岩;周涛;邓金祥;.p-c-BN／p-Si薄膜同型异质结的电学特性[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
[4]张岩;邓金祥;周涛;陈浩;李志中;何斌;陈光华;王丽香;郝伟;候碧辉;.立方氮化硼薄膜的掺杂和电学特性研究[A].2006年全国功能材料学术年会专辑.2006-07-01
[5]马占洁;陈光华;何斌;刘国汉;朱秀红;张文理;李志中;郜志华;宋雪梅;邓金祥;.氢化非晶硅薄膜光衰退稳定性的影响因素[A].全国薄膜技术学术研讨会论文集.2006-09-01
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