陈光华
【姓名】 陈光华
【职称】 教授;
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;材料科学;
【研究方向】 半导体材料研究
【发表文献关键词】 硅薄膜,非晶,桥键,热丝,氢化,沉积速率,氢化非晶硅,微波ECRCVD,氢含量,电子回旋共振,间隙扩散,氢扩散,复合膜,氢化非晶硅薄膜,傅立叶变换,氢稀释率,光敏性,电子回旋共振化学气相沉积,电荷转移...
【工作单位】 北京工业大学
【曾工作单位】 北京工业大学;
【所在地域】 北京
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[2]朱秀红;陈光华;郑茂盛;.沉积条件对硅基薄膜非晶转微晶相变、沉积速率及其光电性能的影响(英文)[J]功能材料与器件学报.2012,(02)
[3]王立富;胡跃辉;张祥文;陈光华;曲铭浩;谢耀江;.用HW-MWECRCVD系统沉积大面积均匀氢化非晶硅薄膜的研究[J]陶瓷学报.2009,(02)
[4]邓金祥;张晓康;姚倩;汪旭洋;陈光华;贺德衍;.Optical properties of hexagonal boron nitride thin films deposited by radio frequency bias magnetron sputtering[J]Chinese Physics B.2009,(09)
[5]谢耀江;胡跃辉;肖仁贤;陈光华;徐海军;陈义川;王立富;.用MWECR CVD系统制备具有非晶/微晶两相结构的硅薄膜研究[J]陶瓷学报.2010,(04)
[6]田凌;丁毅;陈浩;刘钧锴;邓金祥;贺德衍;陈光华;.用射频溅射法制备立方氮化硼薄膜[J]物理学报.2006,(10)
[7]刘国汉;丁毅;朱秀红;陈光华;贺德衍;.HW-MWECR-CVD法制备氢化微晶硅薄膜及其微结构研究[J]物理学报.2006,(11)
[8]朱秀红;陈光华;刘国汉;丁毅;何斌;张文理;马占洁;郜志华;李志中;.采用两步压强法制备优质微晶硅薄膜[J]人工晶体学报.2006,(06)
[9]刘国汉;丁毅;朱秀红;何斌;陈光华;贺德衍;.热丝辅助MWECR-CVD法沉积氢化非晶硅薄膜研究[J]太阳能学报.2006,(10)
[10]陈浩;邓金祥;刘钧锴;周涛;张岩;陈光华;.立方氮化硼薄膜沉积过程的相变研究[J]物理学报.2007,(06)
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中国重要会议全文数据库    共找到38篇
[1]张兴旺;严辉;王波;路永刚;陈光华;.偏压对c-BN薄膜生长特性的影响[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
[2]严辉;邹云娟;宋雪梅;张兴旺;王波;陈光华;马国斌;.富勒烯-聚甲基丙烯酸甲脂复合膜的结构研究[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
[3]严辉;宋雪梅;邹云娟;张兴旺;王波;陈光华;马国斌;.C_(60)—PMMA复合膜的光荧光特性[A].第三届中国功能材料及其应用学术会议论文集.1998-10-13
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[5]吴现成;王博;严辉;陈光华;.工艺参数对CN_x薄膜结构和特性的影响[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
[6]邵乐喜;刘小平;屈菊兰;谢二庆;贺德衍;陈光华;.原位氮掺杂对CVD金刚石薄膜生长和结构的影响[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
[7]王波;邹云娟;王玫;陈光华;严辉;.C_(60)薄膜的结构和特性研究[A].第四届中国功能材料及其应用学术会议论文集.2001-10-01
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[9]陈光华;蔡让岐;宋雪梅;邢光建;阴生毅;冯贞健;贺德衍;.多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及场电子发射研究[A].2002年材料科学与工程新进展(上)——2002年中国材料研讨会论文集.2002-10-01
[10]阴生毅;陈光华;宋雪梅;胡跃辉;吴越颖;王青;刘毅;.提高MWECR-CVD沉积a-Si:H薄膜速度的新方法[A].21世纪太阳能新技术——2003年中国太阳能学会学术年会论文集.2003-06-30
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