任黎明
【姓名】 任黎明
【职称】 讲师;
【研究领域】 无线电电子学;化学;仪器仪表工业;
【研究方向】 微细加工及其模拟技术研究
【发表文献关键词】 微细加工,电子束光刻,邻近效应,线条图形,纳米级,子学,微电,技术学院,信息科学,北京大学,化学放大胶,电子束光刻技术,电子束直写,各向异性度,王文平,刻蚀技术,优化工艺参数,校正技术,结合电子,抗蚀...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京
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[1]田仲政;于达程;任中阳;田姣姣;任黎明;傅云义;.γ和β辐射对金属隧穿结器件的影响及其可修复性（英文）[J]Transactions of Nonferrous Metals Society of China.2025,(11)
[2]魏子钧;王志刚;李晨;郭剑;任黎明;张朝晖;傅云义;黄如;.石墨烯场效应晶体管的光响应特性研究[J]北京大学学报(自然科学版).2014,(04)
[3]魏子钧;傅云义;刘竞博;王紫东;贾越辉;郭剑;任黎明;陈远富;张酣;黄如;张兴;.Radio-frequency transistors from millimeter-scale graphene domains[J]Chinese Physics B.2014,(11)
[4]魏芹芹;魏子钧;任黎明;赵华波;叶天扬;施祖进;傅云义;张兴;黄如;.Vertical assembly of carbon nanotubes for via interconnects[J]Chinese Physics B.2012,(08)
[5]赵珉;陈宝钦;刘明;任黎明;谢常青;朱效立;安南;.应用于纳米制造的新型电子束抗蚀剂Calixarene的工艺研究[J]纳米技术与精密工程.2009,(03)
[6]任黎明,王文平,陈宝钦,周毅,黄如,张兴.纳米级精细线条图形的微细加工[J]半导体学报.2004,(12)
[7]冀会辉;于民;任黎明;张兴;黄如;张有光;.Simulation of plasma doping process by using the localized molecular dynamics method[J]Chinese Physics B.2008,(09)
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承担国家科研项目    共找到1个
[1]任黎明;.电子束抗蚀剂Calixarence的特性及其在纳米尺度电子束光刻中的应用研究[A].北京大学;.项目经费 7万元.2005-03-31.资助文献数 0 篇
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