刘晓华
【姓名】 刘晓华
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;企业经济;
【研究方向】
【发表文献关键词】 民营企业,钨膜,产权制度,结构特性,治理结构,接触电阻率,深度谱,接触电阻,连通孔,电阻率,溅射,子学,未退火,退火条件,TINI,金属硅化物,隔离层,欧姆接触,LPCVD,微电,膜特性,反应室,互连...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京
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[1]刘晓华.论我国民营企业的产权制度问题[J]北京大学学报(哲学社会科学版).2003,(S1)
[2]武国英,郝一龙,徐立,张国炳,刘晓华.AI/W/TiN/AI及AI/W/TiW/AI结构特性研究[J]半导体学报.1993,(02)
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