刘诗美
【姓名】 刘诗美
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅薄膜,PIN二极管,多晶,少子寿命,复合中心,暗电流,硅膜,应力特性,辐射探测器,本征应力,退火温度,平面工艺,压应力,应力松弛,张应力,内应力,薄膜应力,多晶硅,淀积温度,晶向,微结构,淀积条件,...
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】 北京
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[1]张太平,张录,宁宝俊,田大宇,刘诗美,王玮,张洁天,郭昭乔,陈世媛.平面工艺辐射探测器的研制[J]半导体学报.2001,(03)
[2]张国炳,郝一龙,田大宇,刘诗美,王铁松,武国英.多晶硅薄膜应力特性研究[J]半导体学报.1999,(06)
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