胡永健
【姓名】 胡永健
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 磁电阻,多层膜,层间耦合,中介层,层厚度,掺入,耦合振荡,非磁,磁层,千分之几,真空蒸镀,电子数,振荡,磁电阻效应,Ｘ射线,电阻效应,剩磁比,电阻率,小角衍射,电子极化,
【工作单位】 北京大学
【曾工作单位】 北京大学;
【所在地域】
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[1]胡永健,彭初兵,方瑞宜,李文君,戴道生.［Fe／Cr］多层膜及掺入Si中介层后的层间耦合和磁电阻效应[J]物理学报.1996,(10)
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